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提升鉻靶鋯靶等磁控濺射靶材利用率的有效方法
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提升鉻靶鋯靶等磁控濺射靶材利用率的有效方法

發(fā)布時間 :2023-08-26 12:29:54 瀏覽次數(shù) :

磁控濺射技術(shù)是目前最重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)之一,與其他的濺射鍍膜相比,磁控濺射技術(shù)具有高速、低溫、低損傷的優(yōu)點。一般這種濺射方法被稱為低溫高速濺射法,但是磁控濺射法也有很多缺點,例如濺射中不均勻沖蝕造成的濺射靶材利用率低的問題,所以如何優(yōu)化濺射技術(shù)提高靶材利用率就成為了大家關(guān)注的問題。對于提升鉻靶、鋯靶等磁控濺射靶材利用率的工藝技術(shù),巨偉鈦業(yè)分享如下:

1、優(yōu)化磁控陰極結(jié)構(gòu)

優(yōu)化磁控陰極結(jié)構(gòu),就是通過對磁鋼進行恰當切削 ,其將中間磁鋼形狀進行改變 ,讓磁鋼變?yōu)槎祟^向中間收窄,而兩側(cè)磁鋼進行單邊切削,擴大磁場的范圍進而提高了靶的利用率。這種方式可以使得靶材利用率達到40%-50%。

2、分流設(shè)計法

分流設(shè)計法就是在靶材跟磁極之間放置一定形狀的鐵磁體墊片,這就會使得靶面附近的磁場分布更均勻,這樣不僅可以使得整個噴濺過程更均勻,而且還可以使得靶材的利用率提高到86%,也會在一定程度上延長靶材的壽命。


鋯靶

動態(tài)的方法就是動態(tài)的變換靶面閉合磁場的分布,從而改變靶面的等離子刻蝕區(qū),以提高靶材的利用率與薄膜的穩(wěn)定性。一般采用的方法就是在磁體結(jié)構(gòu)下加一個運動機構(gòu),電機帶著磁體做往復運動,增大刻蝕面積,并且可以使不同靶材在鍍膜時都得到最佳的性能。

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